Standard Utländsk standard - publik · DIN 50453-2

Spectrophotometric determination of etch rate of mixtures for etching silicon dioxide coatings for use in semiconductor technology

Status: Upphävd

Köp denna standard

Standard Utländsk standard - publik · DIN 50453-2

Spectrophotometric determination of etch rate of mixtures for etching silicon dioxide coatings for use in semiconductor technology
Prenumerera på standarder med tjänst SIS Abonnemang. Genom att prenumerera får du effektiv åtkomst till gällande standarder och säkerställer att ditt företag alltid har tillgång till senaste utgåvan. Läs mer om SIS Abonnemang
Prenumerera på standarden - Läs mer Dölj
Pris: 423 SEK
standard ikon pdf

PDF

Pris: 423 SEK
standard ikon

Papper

Fler alternativ Färre alternativ

Ämnesområden

Halvledande material (29.045)

Köp denna standard

Standard Utländsk standard - publik · DIN 50453-2

Spectrophotometric determination of etch rate of mixtures for etching silicon dioxide coatings for use in semiconductor technology
Prenumerera på standarder med tjänst SIS Abonnemang. Genom att prenumerera får du effektiv åtkomst till gällande standarder och säkerställer att ditt företag alltid har tillgång till senaste utgåvan. Läs mer om SIS Abonnemang
Prenumerera på standarden - Läs mer Dölj
Pris: 423 SEK
standard ikon pdf

PDF

Pris: 423 SEK
standard ikon

Papper

Fler alternativ Färre alternativ

Produktinformation

Språk: Engelska

Framtagen av: DIN

Internationell titel: Spectrophotometric determination of etch rate of mixtures for etching silicon dioxide coatings for use in semiconductor technology

Artikelnummer: STD-8013383

Utgåva: 1990

Fastställd: 1990-10-01

Antal sidor: 2